PCE-22 紫外臭氧清洗機(jī) 參考價(jià):面議
PCE-22 紫外臭氧清洗機(jī)是一款可加熱型的紫外臭氧清洗機(jī),其加熱溫度可達(dá)150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片,為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠,...PCE-44 小型紫外臭氧清洗機(jī) 參考價(jià):面議
PCE-44 小型紫外臭氧清洗機(jī),可用于清洗各種單晶基片,以保證更好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤(rùn)濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等...PCE-44-LD 小型紫外臭氧清洗機(jī) 參考價(jià):面議
PCE-44-LD 小型紫外臭氧清洗機(jī),可用于清洗各種單晶基片,以保證更好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤(rùn)濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚...PCE-6V 小型等離子清洗機(jī) 參考價(jià):面議
PCE-6V 小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù),采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染...PDC-36G 等離子清洗機(jī) 參考價(jià):面議
PDC-36G 等離子清洗機(jī)是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機(jī)。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級(jí)有機(jī)物污染。在射頻電源的作用下,去除速率大每分鐘10納米。在...PCE-80 8.5英寸等離子清洗機(jī) 參考價(jià):面議
PCE-80 8.5英寸等離子清洗機(jī)是一款較大型的等離子清洗機(jī),等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體,采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)...PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機(jī) 參考價(jià):面議
PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機(jī)是一款較大型的500W等離子刻蝕清洗機(jī),等離子腔體為 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔體,采用的射頻電源頻率...GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀 參考價(jià):面議
GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng),主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒(méi)有真空條件下,...GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀 參考價(jià):面議
GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺(tái)結(jié)合在一起的產(chǎn)品,有自動(dòng)控制的樣品臺(tái),就可使等離子槍按設(shè)定程序?qū)悠繁砻孢M(jìn)行更均勻涂覆和處理,保證處理樣...PCE-05石英真空等離子清洗機(jī) 參考價(jià):面議
PCE-05石英真空等離子清洗機(jī)石英圓形真空腔體,腔體處理溫度低,避免長(zhǎng)時(shí)間等離子處理造成的腔體溫度過(guò)高,確保對(duì)樣品表面沒(méi)有造成熱影響。電源:采用*電源電路技術(shù)...超聲波清洗機(jī)系列 參考價(jià):面議
此系列數(shù)碼超聲波清洗機(jī)主要運(yùn)用于電子、機(jī)械、光學(xué)、珠寶、汽保、醫(yī)藥、電鍍、涂裝及真空鍍膜前處理等行業(yè)。特別適用于表面形狀復(fù)雜的零件,如對(duì)工件上的狹縫、凹槽、深孔...超聲波清洗機(jī) 參考價(jià):面議
VGT-QTD系列超聲波清洗機(jī)主要運(yùn)用于電子、機(jī)械、光學(xué)、珠寶、汽保、醫(yī)藥、電鍍、涂裝及真空鍍膜前處理等行業(yè)。特別適用于表面形狀復(fù)雜的零件,如對(duì)工件上的狹縫、凹...超聲波清洗機(jī) 參考價(jià):面議
這是一款新的超聲波清洗機(jī),它功能強(qiáng)大,它可以單獨(dú)用清水清洗,在清洗單晶襯底,TEM樣品和金相樣品等。它是一款理想的清洗機(jī)。圓柱型電池清洗機(jī) 參考價(jià):面議
MSK-531 圓柱型電池清洗機(jī)是應(yīng)用于圓柱型電池外觀清洗及熱風(fēng)烘干工藝的設(shè)備。設(shè)備采用刷洗清洗技術(shù)對(duì)電池外觀進(jìn)行清潔,并采用熱風(fēng)加熱方式進(jìn)行風(fēng)干,效率*。小型等離子清洗機(jī) 參考價(jià):面議
PCE-6V小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù),采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)